Vlasová kosmetická čelenka Elixir Intense Headband

Podrobný popis

• Udržuje vaše vlasy pod kontrolou při líčení, čištění nebo aplikaci oblíbeného séra nebo masky na vaši pleť
• Zabraňuje vlasům kontaktu s produkty
• Měkký a elastický materiál
• 100% Polyester

RARE Paris Elixir Intense čelenka je ideálním doplňkem pro každodenní kosmetickou rutinu. Jemný elastický materiál pohodlně drží vlasy mimo obličej, takže se můžete naplno věnovat čištění, aplikaci masek nebo líčení bez rušivých pramínků.

Proč si RARE Paris čelenku zamilujete?

Spojuje praktičnost a eleganci. Je lehká, pružná a snadno se nasazuje i sundává. Díky univerzální velikosti sedí každému a ochrání vlasy před kontaktem s kosmetickými produkty.

Jak RARE Paris čelenka funguje?

Jednoduše ji navléknete přes krk a posunete na čelo. Elastický pásek drží pevně, ale netlačí, takže čelenka zůstane na místě po celou dobu vaší péče o pleť či líčení.

Vlastnosti:

• Měkký a elastický materiál

• Univerzální velikost

• Pohodlné nošení bez sklouzávání

• Stylový design vhodný do koupelny i na cesty

• Snadná údržba

Co byste měli vědět o složení?

• 100 % polyester (měkké mikrovlákno)

• Pratelná a opakovaně použitelná

• Bez aviváže pro zachování elasticity

Jaké výsledky můžete očekávat?

Vlasy zůstanou dokonale mimo obličej, vaše pleťová rutina bude pohodlnější a čistší. Budete se moci plně soustředit na péči o pleť bez nechtěných kontaktů vlasů s produkty.

Benefity:

• Udržuje vlasy na místě při péči o pleť

• Příjemný a měkký materiál

• Snadná údržba a dlouhá životnost

• Univerzální velikost pro každého

• Stylový a praktický doplněk

Použití:

Když si nanášíte pleťovou masku, během každodenní péče o pleť, před každým líčením. Kdykoli potřebujete mít vlasy z obličeje, abyste se mohla věnovat péči o sebe:
Nasaďte si čelenku kolem krku. Posuňte ji nahoru přes čelo, abyste si uvolnila obličej a vlasy zůstaly na místě. Očistěte pleť, naneste pleťovou masku, vmasírujte pleťový přípravek, naneste make-up. Sundejte čelenku tak, že ji posunete dolů po vlasech.